EOS, líder world em soluções de fabricação responsáveis para impressão 3D industrial. Esses pós de níquel de alto desempenho são projetados para a tecnologia de impressão 3D de fusão de leito a laser (LPBF), expandindo as capacidades da AM em indústrias que exigem propriedades mecânicas excepcionais e resistência ambiental. Especificamente, a API EOS Nickelalloy IN718 está disponível para todos os sistemas EOS de metallic com processos de parâmetros EOS IN718 padrão. O EOS Nickel NICP está disponível comercialmente para os sistemas EOS M 290 e EOS M 400-4.
Sophia Heyl, especialista em produtos da EOS, enfatizou os ganhos de eficiência para os fabricantes de semicondutores, explicando que a fabricação aditiva dessas peças pode melhorar significativamente o tempo de atividade e a taxa de transferência da máquina, beneficiando os processos de fabricação de wafer e aumentando a receita.
“A EOS Nickel NICP já foi implantada com sucesso em ambientes de produção, demonstrando sua confiabilidade e desempenho”, explicou o Dr. Ankit Saharan, diretor de tecnologia de metais da EOS. “Ao disponibilizá -lo de maneira mais ampla, continuamos a fortalecer nosso envolvimento com a indústria de semicondutores e nossa dedicação ao avanço de suas aplicações por meio de materiais e processos inovadores. Estamos ansiosos para trabalhar com nossos parceiros para ultrapassar os limites do que é possível com a NICP na fabricação aditiva. ”
As super-alojas baseadas em níquel são avaliadas há muito tempo em fabricação aeroespacial, de energia e industrial para sua capacidade de suportar temperaturas extremas, alto estresse mecânico e ambientes corrosivos. Tradicionalmente, algumas dessas ligas têm sido difíceis de processar devido a seus altos pontos de fusão e características de endurecimento do trabalho. O advento da fabricação aditiva mudou isso, permitindo geometrias complexas, eficiência materials e prototipagem rápida, mantendo o desempenho superior das ligas de níquel. Os novos pós da EOS expandirão ainda mais o uso industrial de materiais AM baseados em níquel, enfrentando desafios em campos como petróleo e gás, fabricação de semicondutores e processamento químico.
EOS Nickelalloy in718 API
O primeiro desses materiais, a API da EOS Nickelalloy IN718, agora está disponível para todos os sistemas de impressão 3D EOS Metallic que suportam processos padrão de parâmetros EOS IN718. Projetado especificamente para atender aos padrões da API 6ACRA, essa liga é adaptada para aplicações de alto desempenho na indústria de petróleo e gás, onde condições extremas exigem alta resistência e resistência à corrosão. Com uma resistência à tração de 878 MPa e um alongamento de 27% após o tratamento térmico, ele oferece a tenacidade de alto impacto necessária para aplicações de fundo de poço, injeção, acessório e fixador. Uma empresa líder de tecnologia de controle de entrada já testou o materials e está usando -o para produzir um componente do módulo de fluxo que atenda aos requisitos rigorosos de padronização da API e resistência à corrosão.
Uma das barreiras de longa information para a adoção de fabricação aditiva em petróleo e gás atende aos padrões de materiais específicos da indústria. Um representante da empresa de controle de entrada observou que a AM estava anteriormente “fora de alcance” para aplicações de fundo de poço devido aos requisitos rigorosos do setor. Com a disponibilidade da API EOS Nickelalloy IN718, isso está começando a mudar. As empresas de petróleo e gás agora podem avaliar a impressão 3D não apenas para prototipagem rápida, mas como uma solução de fabricação em larga escala capaz de produzir componentes com as mesmas características de desempenho, se não melhores, como as peças tradicionalmente usinadas ou fundidas.
EOS Nickel Nicp
A EOS também está fazendo avanços em aplicações semicondutor e química com a EOS Nickel NICP, agora disponível comercialmente para os sistemas EOS M 290 e EOS M 400-4. Este materials de níquel de alta pureza foi projetado para aplicações resistentes à corrosão e dúcteis, particularmente onde a pureza do níquel e a integridade mecânica são críticas. Com uma resistência à tração de 400 MPa e um impressionante alongamento de 49%, a EOS Nickel NICP é adequada para injetores de gás, componentes resistentes à corrosão em equipamentos de capital semicondutores e ambientes industriais quimicamente severos.
Historicamente, a indústria de equipamentos de semicondutores baseou -se no revestimento de níquel com eletrólito para aumentar a resistência à corrosão em partes expostas a produtos químicos agressivos. No entanto, a impressão em 3D com componentes inteiros usando o NICP de níquel EOS elimina a necessidade de revestimento, prolongando a vida útil dessas peças consumíveis e reduzindo o desperdício perigoso dos processos de eletroplatação. Essa mudança se alinha a esforços mais amplos da indústria para criar fluxos de trabalho de fabricação mais limpos e sustentáveis.