4º Reconhecimento da Indústria na Conferência OFC 2026


A tecnologia fotônica economizará uma enorme quantidade de energia nos knowledge facilities da próxima geração.

4º Reconhecimento da Indústria na Conferência OFC 2026
Matt Value e Nikta Jalayer da PI recebem o prêmio Lightwave Innovation Award do editor da revista Lightwave, Sean Buckley (à direita) na Conferência OFC 2026 em Los Angeles, CA. Crédito da imagem: PI (Physik Instrumente) LP

PI (Physik Instrumente), líder world em soluções de controle de movimento de precisão, automação e nanoposicionamento, anuncia que sua plataforma de alinhamento fotônico paralelo ativo PINovAlign foi reconhecida com o Prêmio de Inovação Lightwave 2026.

O prêmio foi entregue na Conferência OFC em Los Angeles, CA, onde Matt Value e Nikta Jalayer da PI receberam a homenagem do editor da revista Lightwave, Sean Buckley.

Este reconhecimento marca o quarto grande prêmio da indústria para o sistema PINovAlign, ressaltando seu impacto no alinhamento fotônico de alta velocidade e alta precisão. A plataforma combina controle de movimento avançado, algoritmos de alinhamento integrados e {hardware} de alto desempenho para melhorar significativamente o rendimento e a repetibilidade na fabricação e testes de dispositivos fotônicos.

Otimização paralela e multicanal

Projetado para testes de wafer fotônico de silício, alinhamento de fibra de alto rendimento, alinhamento FAU (unidade de matriz de fibra) e alinhamento PIC (circuito integrado fotônico) em ambientes de teste e montagem, a abordagem de otimização multicanal paralela do PINovAlign aborda um dos principais gargalos no dimensionamento da fabricação de fotônica de silício. Ao combinar movimento de precisão de alta dinâmica com inteligência de alinhamento incorporada, o sistema permite acoplamento rápido e repetível de componentes ópticos com precisão de nível nanométrico.

No centro dos knowledge facilities – a fotônica está avançando no futuro enquanto economiza energia

No centro da plataforma, o algoritmo PILightning acelera drasticamente a aquisição da primeira luz e a convergência de alinhamento em comparação com métodos sequenciais legados. Isso resulta em tempos de ciclo significativamente mais curtos, maior rendimento e maior estabilidade do processo – fatores críticos para a produção em quantity.

À medida que a fotônica de silício continua a emergir como uma tecnologia basic para infraestrutura de IA e knowledge facilities de próxima geração, a necessidade de soluções de alinhamento rápidas, automatizadas e escalonáveis ​​torna-se essencial. Ao reduzir o tempo de alinhamento de minutos para segundos e permitir a otimização paralela e multicanal, o PINovAlign ajuda a remover uma importante barreira à adoção em massa, apoiando o crescimento de uma indústria que sustentará a futura comunicação de dados de alta velocidade.

Ao substituir elétrons por fótons, os chips fotônicos de computador têm o potencial de economizar enormes quantidades de energia nos knowledge facilities da próxima geração.

Indústrias e aplicações atendidas

Alinhamento fotônico, alinhamento de matriz de fibra, sondagem de wafer PIC, alinhamento microóptico

» Mais sobre a plataforma de alinhamento fotônico multicanal paralelo da PI

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